美國政府出手阻撓，SK海力士無錫廠引入EUV光刻機受阻！

據(jù)三位知情人士透露，SK海力士無錫廠的升級計劃，希望提升DRAM芯片的制造工藝，以提升生產(chǎn)效率，需要用到荷蘭ASML公司制造的EUV光刻機。而一直以來，美國都在阻止EUV光刻機對中國大陸的出口，理由是向中國大陸運送此類先進設備將可能被用于加強其軍事力量。

路透社報道稱，一位白宮高級官員拒絕就美國政府是否允許SK海力士將EUV光刻機帶到中國大陸的問題發(fā)表具體評論。但這位官員告訴路透社，拜登政府仍然專注于阻止中國利用美國和盟國的技術開發(fā)最先進的半導體制造技術，以幫助中國實現(xiàn)軍事現(xiàn)代化。

DRAM廠商紛紛導入EUV工藝，SK海力士無錫廠或將落后

作為全球第二大DRAM廠商，SK海力士占據(jù)了全球約29%的DRAM市場。而SK海力士無錫廠則占據(jù)了其DRAM總產(chǎn)能的一半，占全球DRAM總產(chǎn)能的近15%。

這也意味著，如果SK海力士無錫廠無法獲得先進的EUV光刻機，將使得該工廠的制程工藝的升級遭遇障礙，生產(chǎn)效率難以繼續(xù)提升，這無疑將對全球DRAM市場產(chǎn)生負面影響。根據(jù)IDC的數(shù)據(jù)顯示，僅2021年，全球DRAM芯片的需求就增長了19%。

一位了解SK海力士中國業(yè)務的消息人士表示，隨著新的依賴于EUV光刻機的先進制程工藝在未來兩到三年內(nèi)在DRAM芯片制造當中占比的提升，SK海力士需要EUV光刻機來幫助其提升無錫廠生產(chǎn)效率和控制成本。

如果未來幾年這種情況得不到解決，SK海力士可能在與排名第一的DRAM芯片制造商三星電子，以及與排名第三的美光的競爭當中處于劣勢。目前三星和美光都在積極的在其DRAM芯片的生產(chǎn)當中導入EUV光刻機。SK海力士韓國的DRAM工廠也在積極導入EUV光刻機。

早在2020年4月，三星就成功生產(chǎn)了100萬個采用了EUV技術的10納米級1x）制程DRAM。之所以將EUV技術應用于1x制程的DRAM，是出于測試的目的。今年10月，三星宣布已開始量產(chǎn)采用EUV工藝的DDR5內(nèi)存，應用的是5層EUV方案，具有更高的密度，更低的成本、更低的功耗以及性能表現(xiàn)。

根據(jù)此前的資料顯示，三星在2020年下半年完成了平澤工廠的EUV專用產(chǎn)線（被稱為“P-EUV”），1a DRAM產(chǎn)品正是在平澤的P-EUV產(chǎn)線生產(chǎn)。

雖然美光并沒有計劃在1a DRAM產(chǎn)品上使用EUV技術，但是已明確會在會1-δ （10納米級第7代）產(chǎn)品開始導入EUV制程。

此前，SK海力士在韓國的利川新廠M16也已經(jīng)引進了2臺EUV光刻機，并且計劃從2021年下半年開始生產(chǎn)第四代10納米級（1a）DRAM存儲器。

SK海力士內(nèi)部對于無錫廠可能無法獲得EUV光刻機的問題，一直都有著擔憂，只不過沒有公開對外透露過。

據(jù)兩位知情人士透露，此事在SK海力士內(nèi)部已經(jīng)引起了足夠的重視，以至于SK海力士首席執(zhí)行官李錫熙在今7月訪問美國華盛頓特區(qū)期間就向美國官員提出了這個問題。

SK海力士拒絕就此事發(fā)表評論，只表示，它將根據(jù)各種市場環(huán)境靈活運作，并正在盡最大努力應對市場和客戶的需求。

為遏制大陸半導體發(fā)展，美國卡住EUV光刻機

目前中國大陸在芯片設計領域已經(jīng)處于全球領先地位，華為海思可以說是芯片設計領域的領軍企業(yè)，近年來數(shù)代麒麟處理器都足以與同時期的高通驍龍旗艦處理器相抗衡。不過，在芯片制造領域，特別是在半導體設備方面，中國大陸仍處于落后的位置。

雖然近年來國家大力支持半導體制造及設備產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，但是美國為了進一步壓制大陸半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，通過出口管制以及行政令等手段，持續(xù)限制中芯國際、華為等半導體企業(yè)獲取可以被用于先進制程芯片制造的半導體設備或制造服務。

特別對于7nm以下更先進的半導體制程所必須的關鍵設備——荷蘭ASML的EUV光刻機，美國更是不遺余力的進行封堵。

早在2018年5月，中芯國際就證實已向荷蘭ASML訂購了一臺最新型的EUV光刻機，價值高達1.5億美元，原計劃在2019年初交付。當時荷蘭政府也已向ASML頒發(fā)了出口許可證（該出口許可證于2019年6月30日到期），允許其向中國客戶出售其最先進的設備。

雖然根據(jù)美國出口管制的規(guī)定，如果其他國家出口到中國的高科技產(chǎn)品中來源于美國的技術占比達到25%以上，美國政府有權阻止這項交易。但是，美國商務部對ASML的EUV光刻機進行了審計，但發(fā)現(xiàn)它沒有達到25%的門檻。

由于無法利用現(xiàn)有的法規(guī)直接阻止EUV光刻機對中國大陸的出口，因此，特朗普政府迫使荷蘭考慮安全問題。并且在后續(xù)的幾個月里，美國官員為了阻止這筆交易，與荷蘭官員舉行了至少四輪會談。

2019年7月，美國的努力達到了頂峰，時任美國國家副安全顧問的查爾斯·庫珀曼（Charles Kupperman）在荷蘭總理馬克·呂特（Mark Rutte）訪問美國期間向荷蘭官員提出了這個問題。據(jù)報道，美國向荷蘭總理呂特提供了一份情報報告，內(nèi)容涉及中國收購ASML技術的潛在影響。

隨后，美國施加的壓力似乎起作用了。在荷蘭總理訪問美國后不久，荷蘭政府決定不續(xù)簽ASML的出口許可證。這也導致了ASML一直無法向中芯國際交付EUV光刻機。

ASML發(fā)言人表示，該公司遵守所有出口管制法律，并將其視為政府確保國家安全的“有效工具”。但該公司也表示，過度使用這些控制“可能會影響保持領先于不斷增長的半導體需求所需的生產(chǎn)能力”。

“出口管制的廣泛使用，可能會加劇芯片供應鏈問題，將會加劇對汽車行業(yè)等其他行業(yè)的溢出效應，這已經(jīng)是世界各國政府和政策制定者的主要關注點”，AMSL發(fā)言人在一份聲明中說到。

分析人士認為，美國官員對于SK海力士將EUV光刻機引入其中國工廠的努力的態(tài)度，與對于中國公司此前為了引入EUV光刻機所做的努力的態(tài)度沒有任何不同。

VLSIresearch 的首席執(zhí)行官丹·哈奇森 (Dan Hutcheson) 表示：“他們真的被夾在了中國和美國的矛盾之間，”他補充說，這些規(guī)則可能適用于中國的任何芯片制造業(yè)務，無論是外國的還是由中國大陸資本控制的。“任何在中國安裝 EUV光刻機的企業(yè)都會為中國大陸提供制造能力。一旦它在那里，你不知道它之后會去哪里。他們總是可以利用它或做任何他們想做的事情。”這似乎也正是美國所擔憂的。