2020年全球EUV光刻專利申請(qǐng)量：蔡司第一，三星超過ASML
在半導(dǎo)體工藝進(jìn)入7nm之后，EUV光刻機(jī)就成為兵家必備大殺器了，全球也只有ASML公司能生產(chǎn)，單價(jià)達(dá)到10億人民幣一臺(tái)。不過在今年的EUV專利申請(qǐng)量上，蔡司排名第一，三星也超過了ASML。
韓國媒體報(bào)道，近年來韓國企業(yè)及科研機(jī)構(gòu)在EUV光刻工藝大舉投入，專利技術(shù)上正在跟國外公司縮短差距。
據(jù)報(bào)道，在2011到2020年的專利申請(qǐng)中，向韓國知識(shí)產(chǎn)權(quán)局(KIPO)提交的與EUV光刻相關(guān)的專利申請(qǐng)數(shù)量達(dá)到88件的峰值，2018年達(dá)到55件，2019年達(dá)到50件。
其中2019年中韓國本土公司提出的EUV專利申請(qǐng)為40件，超過了國外10件，這也是韓國提交的EUV專利首次超過國外公司。
在2020年中，韓國公司提交的EUV專利申請(qǐng)達(dá)到了國外的2倍多，其中三星公司是最多的，該公司今年已經(jīng)開始使用5nm EUV工藝生產(chǎn)手機(jī)處理器。
從全球來看，TOP6的廠商申請(qǐng)的EUV專利占了全部的59%，其中卡爾蔡司占比18%（畢竟光學(xué)物鏡是EUV核心），位列第一，三星緊隨其后，專利申請(qǐng)占比18%，ASML公司占比11%，位列第三。
再往下，韓國S&S Tech占了8%，臺(tái)積電占了6%，SK海力士占了1%。
從具體技術(shù)項(xiàng)目看，工藝技術(shù)申請(qǐng)專利占32%，曝光裝置技術(shù)申請(qǐng)專利占31%，掩膜技術(shù)申請(qǐng)專利占28%，其他申請(qǐng)專利占9%。
在工藝技術(shù)領(lǐng)域，三星電子占39%，臺(tái)積電占15%。
在光罩領(lǐng)域，韓國S&S科技占28%，日本Hoya占15%，韓國漢陽大學(xué)占10%，日本朝日玻璃占10%，三星電子占9%。
來源：快科技
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