ASML：仍未獲得向中國出口最新光刻機許可

1月21日消息，據(jù)路透社報道，荷蘭光刻機巨頭ASML 首席執(zhí)行長彼得?溫尼克（Peter Wennink）近日對外表示，截至目前仍未獲得向中國芯片制造商出口最新光刻機的許可。

ASML是曝光系統(tǒng)的主要制造商，曝光系統(tǒng)主要用于制造晶片。之前報導，美國政府壓力下，荷蘭政府拒絕授予ASML出口這些機器的許可，理由是這些機器是有軍事用途的“兩用”商品。

此前在2020年第三季財報發(fā)布后，ASML執(zhí)行副總裁及CFO羅杰?達森（Roger Dassen）接受采訪時指出，如果ASML從荷蘭向中國客戶銷售DUV（深紫外線）曝光系統(tǒng)，不需要出口許可證；但如果向中國客戶直接出口涉及美國方面的零組件及系統(tǒng)，照美國要求，就必須獲得出口許可。這意味著，比DUV更先進的EUV（極紫外光）曝光機的確不能直接賣給中國。

ASML計劃今年將生產(chǎn)能力提高到55臺EUV設備，到2023年達到每年超過60臺；2020年生產(chǎn)35臺EUV光刻機。2021財年第二季財報顯示，ASML前三大設備出貨地分別是南韓39%、臺灣36%、中國17%，當季共出貨72套曝光系統(tǒng)（含9臺EUV）。

彼得?溫尼克認為，中國目前不太可能獨立掌握頂級曝光技術(shù)，因ASML仰賴“不懈的創(chuàng)新”，并整合只有非中國供應商才能獲得的組件；但中國并非永遠無法掌握頂級曝光技術(shù)，“因為我們知道的物理定律，中國人也知道，他們一定會努力掌握這項技術(shù)；永遠不要說得太絕對，他們肯定在嘗試。”

來源：路透社