國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)正式宣布：今年出貨150臺(tái)

在芯片領(lǐng)域，有一個(gè)叫光刻機(jī)的設(shè)備，不是印鈔機(jī)，但卻比印鈔機(jī)還金貴。全球只有荷蘭一家叫做阿斯麥（ASML）的公司集全球高端制造業(yè)之大成，一年時(shí)間造出二十臺(tái)高端設(shè)備，臺(tái)積電與三星每年為此搶破了頭，中芯國(guó)際足足等了三年，也沒能將中國(guó)的首臺(tái)EUV光刻機(jī)迎娶進(jìn)門。

目前，全球光刻機(jī)已由荷蘭ASML、日本尼康和佳能公司完全壟斷。據(jù)芯思想研究院（ChipInsights）數(shù)據(jù)，2020年上述三家公司半導(dǎo)體用光刻機(jī)出貨413臺(tái)，較2019年的359臺(tái)增加54臺(tái)，漲幅為15%。其中，ASML公司出貨258臺(tái)，占比62.47%；尼康公司出貨31臺(tái)，占比7.51%；佳能公司出貨122臺(tái)，占比29.54%。

根據(jù)光刻機(jī)領(lǐng)域的數(shù)據(jù)來看，全球市場(chǎng)上百分之九十的份額都被國(guó)外的巨頭公司所掌控。其中，在高端的光刻機(jī)領(lǐng)域，ASML公司更是一家獨(dú)秀，它制造的EUV光刻機(jī)是其他公司都制造不出來的。生產(chǎn)一臺(tái)EUV光刻機(jī)需要用上10萬個(gè)零部件，背后還有5000家供應(yīng)商的支持。要知道EUV光刻機(jī)是唯一可以生產(chǎn)7nm芯片的設(shè)備，缺少這種光刻機(jī)的話，就沒有辦法生產(chǎn)出高制程的芯片。

光刻機(jī)的重要性不言而喻，沒有光刻機(jī)就造不了芯片，設(shè)計(jì)好的芯片電路圖就無法曝光在晶圓上，中國(guó)研究人員一直在努力。

光刻機(jī)是有種類需求之分的，ASML只是在中高端市場(chǎng)占據(jù)主導(dǎo)地位，在后道封裝光刻機(jī)領(lǐng)域，ASML影響力就未必那么大了。除此之外，面向配套生產(chǎn)設(shè)施中的應(yīng)用設(shè)備領(lǐng)域，數(shù)字光刻機(jī)也是備受關(guān)注的。在數(shù)字光刻機(jī)方面，中國(guó)公司正式宣布，將啟動(dòng)生產(chǎn)項(xiàng)目。

近日，源卓微電子裝備有限公司舉辦了DiSS系列數(shù)字光刻機(jī)投產(chǎn)儀式，其將在湖南常德啟動(dòng)總投資2億元的生產(chǎn)線項(xiàng)目，主要投產(chǎn)自主研發(fā)的DiSS數(shù)字步進(jìn)掃描光刻機(jī)，2022年預(yù)計(jì)年產(chǎn)150臺(tái)設(shè)備。

DiSS數(shù)字光刻機(jī)的全稱是Digital-Step-Scan，根據(jù)需求而言，源卓微電子的DiSS數(shù)字步進(jìn)掃描光刻機(jī)擁有強(qiáng)大的應(yīng)用能力，和主流的EUV，DUV光刻機(jī)不同，它的應(yīng)用范圍雖然小眾，卻也能發(fā)揮重要的產(chǎn)業(yè)價(jià)值。

目前，源卓微電子掌握的設(shè)備還包括DiSS-28D，DiSS-35T等系列產(chǎn)品，算上2022年投產(chǎn)的項(xiàng)目，預(yù)計(jì)將在DiSS系列取得更大的產(chǎn)業(yè)突破。

在一定程度上來看，源卓微電子自研的DISS數(shù)字光刻機(jī)正式投產(chǎn)的意義非常重大，不僅可以助力國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，而且還補(bǔ)齊了我們?cè)诠饪虣C(jī)基礎(chǔ)技術(shù)和供應(yīng)體系等方面的短板。

可能會(huì)有人說，DISS數(shù)字光刻機(jī)并不是高端光刻機(jī)，也解決不了國(guó)內(nèi)市場(chǎng)的芯片危機(jī)。但是，這足以證明ASML的擔(dān)憂正在應(yīng)驗(yàn)，就算沒有圖紙，我們也可以生產(chǎn)出光刻機(jī)。

我們國(guó)產(chǎn)自主研發(fā)也突破了光刻機(jī)設(shè)備上非常多的核心零部件，包括雙工件臺(tái)、物鏡系統(tǒng)、浸沒系統(tǒng)和光源系統(tǒng)等等。雙工件臺(tái)由華卓精科負(fù)責(zé)，上海微電子也能提供整機(jī)裝備，光源系統(tǒng)有望通過中科院的高能同步輻射光源設(shè)備來解決。

在國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)領(lǐng)域，先是中科院的高能同步輻射光源設(shè)備，然后是中科科美的兩大鍍膜裝置，分別可以解決國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)在光源以及光學(xué)鏡頭的需求。

由中科院高能物理研究所參與承建的高能同步輻射光源設(shè)備，已經(jīng)實(shí)現(xiàn)安裝。這項(xiàng)高能同步輻射光源也被央視公開“點(diǎn)名”，用了較長(zhǎng)篇幅進(jìn)行報(bào)道。

中科科美分別研制了直線式勞埃透鏡鍍膜裝置和納米聚焦鏡鍍膜裝置。這兩項(xiàng)裝置主要面向光刻機(jī)的鏡頭配備，有了這些鍍膜裝置，可以很大程度提高國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)在光學(xué)鏡頭上的水準(zhǔn)。

雖然我們制造出整臺(tái)EUV光刻機(jī)還有一段距離，但是隨著每一項(xiàng)技術(shù)的進(jìn)步，都在奠定國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的未來，加速國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的發(fā)展。而且推動(dòng)了國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)從成熟工藝到高端工藝的邁進(jìn)。

一旦成功掌握，中國(guó)可能會(huì)生產(chǎn)出更便宜，成本更低的光刻機(jī)設(shè)備。事實(shí)證明，外界的限制因素只會(huì)讓國(guó)產(chǎn)科技發(fā)展得更快，沒有什么力量是可以阻止國(guó)產(chǎn)科技崛起的。

對(duì)于國(guó)內(nèi)光刻機(jī)市場(chǎng)來說，源卓微電子研發(fā)的DISS數(shù)字光刻機(jī)正式下線投產(chǎn)無疑是一個(gè)好消息，但是我們也要記住，半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域所有的突破都不在一朝一夕，需要不斷積累核心技術(shù)和經(jīng)驗(yàn)，更需要有“十年磨一劍”的精神，只要我們不放棄，終會(huì)迎來爆發(fā)的一天。

對(duì)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)你有什么看法呢？