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          揭秘:臺積電3D封裝技術(shù)

          共 2628字,需瀏覽 6分鐘

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          2021-11-30 16:21



          3D Fabric概述


          臺積電3D Fabric先進封裝技術(shù)涵蓋2.5D和垂直模疊產(chǎn)品,如下圖所示。



          集成的FanOut (InFO)封裝利用了由面朝下嵌入的模具組成的重構(gòu)晶圓,由成型化合物包圍。

          在環(huán)氧晶片上制備了再分布互連層(RDL)。(InFO- l是指嵌入在InFO包中的模具之間的硅“橋晶片”,用于在RDL金屬化間距上改善模具之間的連接性。)

          2.5D CoWoS技術(shù)利用microbump連接將芯片(和高帶寬內(nèi)存堆棧)集成在一個插入器上。最初的CoWoS技術(shù)產(chǎn)品(現(xiàn)在的CoWoS- s)使用了一個硅插入器,以及用于RDL制造的相關硅基光刻;通過硅通道(TSV)提供與封裝凸點的連接。硅插入器技術(shù)提供了改進的互連密度,這對高信號計數(shù)HBM接口至關重要。最近,臺積電提供了一種有機干擾器(CoWos-R),在互連密度和成本之間進行權(quán)衡。

          3D SoIC產(chǎn)品利用模塊之間的混合粘接提供垂直集成。模具可能以面對面的配置為向?qū)?/span>TSV通過(減薄的)模具提供連接性。


          InFO和CoWoS產(chǎn)品已連續(xù)多年大批量生產(chǎn)。CoWoS開發(fā)中最近的創(chuàng)新涉及將最大硅插入器尺寸擴展到大于最大光罩尺寸,以容納更多模具(尤其是HBM堆棧),將RDL互連拼接在一起。


          SoIC Testchip


          臺積電分享了最近的SoIC資格測試工具的結(jié)果,如下所示。



          使用的配置是(N5) CPU裸片與(N6) SRAM裸片在面對背拓撲中的垂直接合。(事實上,一家主要的CPU供應商已經(jīng)預先宣布了使用臺積電的SoIC將垂直“最后一級”SRAM緩存芯片連接到CPU的計劃,該芯片將于2022年第一季度上市。)


          SoIC設計流程


          垂直模具集成的高級設計流程如下圖所示



          該流程需要同時關注自上而下的系統(tǒng)劃分為單獨的芯片實施,以及對復合配置中的熱耗散的早期分析,如上所述。



          熱分析的討論強調(diào)了BEOL PDN和互連的低熱阻路徑與周圍電介質(zhì)相比的“chimney”性質(zhì),如上所示。具體而言,臺積電與EDA供應商合作提高SoIC模型離散化技術(shù)的準確性,在最初通過粗網(wǎng)格分析確定的特定“熱點”區(qū)域應用更詳細的網(wǎng)格。

          臺積電還提出了一種方法,將熱分析結(jié)果納入SoIC靜態(tài)時序分析降額因子的計算。就像片上變化(OCV)依賴于(時鐘和數(shù)據(jù))時序路徑所跨越的距離一樣,SoIC路徑的熱梯度也是一個額外的降額因素。臺積電報告說,一個路徑的模上溫度梯度通常為~5-10C,一個小的平滑降額溫度時間裕度應該足夠了。對于SoIC路徑,~20-30C的大梯度是可行的。對于溫差較小的路徑,覆蓋此范圍的平坦降額將過于悲觀——應使用 SoIC 熱分析的結(jié)果來計算降額因子。


          SoIC測試


          IEEE 1838標準化工作與模對模接口測試(link)的定義有關。

          與用于在印刷電路板上進行封裝到封裝測試的芯片上邊界掃描鏈的IEEE 1149 標準非常相似,該標準定義了每個芯片上用于堆棧后測試的控制和數(shù)據(jù)信號端口。該標準的主要重點是驗證在SoIC組裝過程中引入的面對面鍵合和TSV的有效性。

          對于SoIC芯片之間的低速I/O,這個定義已經(jīng)足夠了,但是對于高速I/O接口,需要更廣泛的BIST方法。


          用于SoIC的TSMC Foundation IP–LiteIO


          TSMC的庫開發(fā)團隊通常為每個硅工藝節(jié)點提供通用I/O單元(GPIO)。對于SoIC配置中的die-to-die連接,驅(qū)動程序負載較少,臺積電提供了“LiteIO”設計。如下圖所示,LiteIO設計側(cè)重于優(yōu)化布局以減少寄生ESD和天線電容,從而實現(xiàn)更快的裸片之間的數(shù)據(jù)速率。



          EDA啟用


          下圖列出了最近與主要EDA供應商合作為InFO和SoIC封裝技術(shù)開發(fā)的關鍵工具功能。



          總結(jié)


          臺積電繼續(xù)大力投資2.5D/3D先進封裝技術(shù)開發(fā)。最近的主要舉措集中在3D SoIC直接芯片貼裝的方法上——即分區(qū)、物理設計、分析。具體來說,早期熱分析是必須的步驟。此外,臺積電還分享了他們的SoIC eTV資質(zhì)測試芯片的測試結(jié)果。2022年將見證3D SoIC設計的快速崛起。


          原文鏈接:
          https://semiwiki.com/semiconductor-manufacturers/tsmc/304612-update-on-tsmcs-3d-fabric-technology/


          以下為臺積電芯片封裝技術(shù)演講PPT部分概覽(文末附網(wǎng)盤下載鏈接):

          臺積電 CSoIC、InFO和CoWoS等3DFabric技術(shù)


          由于完整版PPT篇幅過大,如想獲取《TSMC SoIC、InFO和CoWoS等3DFabric技術(shù)》完整PPT下載,請點擊鏈接獲取。

          鏈接:?

          https://pan.baidu.com/s/1Pw4CPtziYDOkQ4ULAqwlHg?

          提取碼: tkem

          下載鏈接:
          TSM CSoIC、InFO和CoWoS等3DFabric技術(shù)
          《2021中國集成電路市場研究報告》
          2021年全球半導體產(chǎn)業(yè)研究報告
          2021-2022中國人工智能計算力發(fā)展評估報告
          多樣性算力技術(shù)愿景白皮書
          2020全球計算力指數(shù)評估報告

          服務器研究框架合集
          1、華為鯤鵬生態(tài)研究框架
          2、服務器研究框架
          3、國產(chǎn)架構(gòu)服務器研究框架
          4、服務器系列報告(計算篇)CPU平臺

          深度報告:RISC-V異構(gòu)IoT全新架構(gòu)
          開啟國產(chǎn)CPU和AI芯片的騰飛之路
          CPU和GPU研究框架合集
          1、行業(yè)深度報告:GPU研究框架

          2、信創(chuàng)產(chǎn)業(yè)研究框架

          3、ARM行業(yè)研究框架

          4、CPU研究框架

          5、國產(chǎn)CPU研究框架

          6、行業(yè)深度報告:GPU研究框架

          國產(chǎn)基礎軟硬件:開源、遷移、上云,關鍵在生態(tài)

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