研究框架：芯片光刻機(jī)（2023）
光刻為IC制造核心工藝，光刻技術(shù)的演進(jìn)成就了摩爾定律。
光刻機(jī)由三大核心系統(tǒng)，數(shù)萬個零件組成，是產(chǎn)業(yè)鏈各環(huán)節(jié)頂尖公司通力合作的成果。
1)光源方面，DUV采用準(zhǔn)分子激光器，技術(shù)掌握在Cymer和Gigaphoton手中，國內(nèi)科益虹源打破壟斷;EUV光源是通過高功率CO2激光器轟擊Sn滴而來，高功率激光器為核心組件。
2) 光學(xué)系統(tǒng)是光刻機(jī)分辨率成像的保證，由照明系統(tǒng)和物鏡系統(tǒng)構(gòu)成，照明系統(tǒng)優(yōu)化成像過程，實現(xiàn)分辨率增強(qiáng)，投影物鏡系統(tǒng)將掩模圖形聚焦成像，ZEISS為ASML關(guān)鍵光學(xué)元件獨供商，國內(nèi)技術(shù)水平仍有較大差距。
3)雙工件臺系統(tǒng)有效提高了光刻精度與效率，國內(nèi)華卓精科和清華大學(xué)團(tuán)隊走在前列。
光刻工藝的重要性愈發(fā)凸顯，市場規(guī)模快速增長，預(yù)計2024年有望達(dá)230億美元，ASML在高端市場一枝獨秀。2022年中國大陸光刻機(jī)進(jìn)口約40億美元，主要從日本、荷蘭進(jìn)口，出口管制下光刻機(jī)存在斷供隱憂，自主可控勢在必行。
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